פרק 10 - שדות חשמליים בחומר: Difference between revisions

From EM Fields - TAU
Jump to navigation Jump to search
Line 38: Line 38:
כלומר, קיבלנו מתוך מודל דרודה את חוק אוהם, כאשר <math>\sigma</math> המוליכות הסגולית, והיא פרמטר התלוי בצפיפות נושאי המטען בחומר, מקדם ה"חיכוך", ומטענם של נושאי המטען.
כלומר, קיבלנו מתוך מודל דרודה את חוק אוהם, כאשר <math>\sigma</math> המוליכות הסגולית, והיא פרמטר התלוי בצפיפות נושאי המטען בחומר, מקדם ה"חיכוך", ומטענם של נושאי המטען.


את משוואות השדה ותנאי השפה בחומר המקיים את חוק אוהב כבר ראינו בפרק הקודם.
את משוואות השדה ותנאי השפה בחומר המקיים את חוק אוהב כבר ראינו ב[[פרק 8 - פתרון משוואת לפלאס במערכת קורדינטות כדורית, פולריזציה ומוליכות סופית#שדות אלקטרוסטטיים בתווך בעל מוליכות סופית|פרק 8]].


=== פולריזציה ===
=== פולריזציה ===

Revision as of 09:33, 23 January 2023


שדות חשמליים בחומר

איור 1

עד כה עסקנו בהתנהגות השדה החשמלי והמגנטי בואקום - כלומר בהעדר חומר כלשהו. במציאות, כמובן שכל התופעות מתרגשות בתוך חומר כלשהו. מטרתנו בפרק זה היא להבין כיצד מתארים את האינטראקציה של החומר עם השדה החשמלי, ומתוך תאור זה לקבל מודל כמותי המאפשר להביא בחשבון את תכונות החומרים בתוך משוואות מקסוול. נקודה חשובה אותה כבר הזכרנו, ועומדת בבסיס המודלים אותם נציג בפרק זה היא הנקודה הבאה:

  • תגובת החומר לשדה החשמלי באה לידי ביטוי בתגובת המטענים שבחומר לשדה, ובפרט ביצירת פילוג מטענים "חדש" בחומר בתגובה להפעלת שדה חיצוני. ברגע שנדע לחשב את פילוג המטענים ה"מושרה" על ידי השדה החיצוני, השדה הכולל יהיה השדה החינוני בתוספת לשדה אותו יוצר הפילוג המושרה, כאילו היו מונחים בואקום.

חומרים מוליכים

בפרקים קודמים כבר הזכרנו את התנהגות השדות החשמליים בתוך חומרים מוליכים, כאשר את תגובת החומר (הזרם שנוצר כתוצאה מהפעלת שדה חשמלי כלשהו) תארנו באמצעות חוק אוהם J=σE

בפרק זה ננסה להסביר מעט יותר טוב מאיפה חוק זה נובע, באמצעות מודל פשטני למדי, אך יעיל. נניח כי קיים במרחב "ענן" פילוג מטען כלשהו ρ(r) כמוראה באיור 1, ונושאי המטען נעים במהירות v(r). על פי הגדרת הזרם כמטען שחולף דרך חתך מסוים ליחידת זמן, ניתן לרשום ביטוי לצפיפות הזרם J=ρ(r)v(r) אם נניח שפילוג המטען בנוי מחלקיקים נושאי מטען בצפיפות נפחית n(r), ומטענו של כל חלקיק הוא q, נקבל J=n(r)qv(r)

איור 2

במקרה הכללי ביותר, ייתכן ופילוג המטען מורכב מיותר מסוג אחד של חלקיקים, כאשר לחלקיקים מסוג k תהיה צפיפות nk(r), מטען qk, ופילוג מהירויות v(r). במקרה זה ניתן לרשום את צפיפות הזרם המרחבית על ידי J=nkqkvk חשוב לציין ש-qk יכול להיות גם שלילי וגם חיובי (מה שיוביל לצפיפות זרם הפוכה בכיוונה).

מודל Drude

איור 3 - פאול דרודה

מודל דרודה הוא מודל קלאסי מקורב המתאר את האינטראקציה של מטענים חופשיים בחומר עם שדה חשמלי. במודל דרודה, מסתכלים על מטענים אשר חופשיים לנוע בתגובה להפעלת שדה חשמלי חיצוני E. במצב זה, ניתן לכתוב את משוואת התנועה עבור החוק השני בצורה הבאה: mv˙=qEνv כאשר ν הינו מקדם החיכוך האפקטיבי הגורם לכוחות מעכבים לפעול על המטענים הנעים בחומר. כשהמערכת מתייצבת (בין אם ההתייצבות נובעת משדות סטטיים לחלוטין, ובין אם קצב השינוי של השדות במערכת הרבה יותר איטי מזמן ההתייצבות האופייני), מתקיים v˙=0 ואז ניתן לרשום:

qE=νvv=qνE=vd

כאשר vd מוגדרת להיות המהירות בשיווי משקל (נקראת "מהירות הסחיפה", או drift velocity).

מקובל לסמן μ=qν - מוביליות נושאי המטען.

אם נציב את הביטוי ל-vd במשוואה המתארת את צפיפות הזרם, נקבל: J=nkqkvk=nkqkqkνkE=nkqk2νkσE=σE כלומר, קיבלנו מתוך מודל דרודה את חוק אוהם, כאשר σ המוליכות הסגולית, והיא פרמטר התלוי בצפיפות נושאי המטען בחומר, מקדם ה"חיכוך", ומטענם של נושאי המטען.

את משוואות השדה ותנאי השפה בחומר המקיים את חוק אוהב כבר ראינו בפרק 8.

פולריזציה

איור 4 - פולריזציה

לא תמיד יש אלקטרונים שחופשיים לנוע, לפעמים האלקטרונים "קשורים" אבל יכולה להיות סטייה במיקומם.

איור 5

מיקום האלקטרון מתואר ע"י פונקציית גל קוונטית Ψ שמתארת לנו את ההסתברות למצוא את האלקטרון במיקום מסוים סביב העולם. כאשר מופעל שדה חיצוני, הוא "מעוות" את ענן האלקטרונים (פונקציית הגל). ולכן המיקום הממוצע של האלקטרונים הנתון על ידי הביטוי:rψ(r,t)ψ*(r,t)drבהפעלת השדה, המיקום הממוצע של האלקטרונים כבר לא יהיה במרכז וייווצר דיפול שקול בחומר.

יש חומרים (כמו מים) (איור 5) שלמולקולות שמרכיבות אותם יש מומנט דיפול באופן טבעי, ואז הפעלה של שדה חשמלי חיצוני "מיישרת" את כל הדיפולים בכיוון השדה.

מודל מקרוסקופי (איור 6)

איור 6

המודל המיקרוסקופי אותו תארנו אינו קשור באופן ישיר למשוואות מקסוול. המטרה שלנו, כעת, היא למצוא פרמטרים מיקרוסקופיים ממוצעים, שאותם נוכל להציב במשוואות מקסוול ולפתור את השדות בנוכחות חומרים.

מבחינתנו, התגובה של חומר (או כל מערכת אחרת) להפעלה של שדה חשמלי עליה יכולה להיות מתוארת על ידי הווצרות של פילוג מטען בתגובה להפעלת השדה החיצוני.

מהרגע שהבנו מהו פילוג המטען ש"הושרה" בחומר בתגובה להפעלת השדה החיצוני, אפשר לחשב את השדה המלא כשדה שנוצר ע"י המקורות החיצוניים.

נניח שמומנט הדיפול של כל אטום או מולקולה הוא Patom ולכן סה"כ הדיפול של כל התיבה: P=NPatom. נוכל להגדיר את צפיפות הדיפולים הנפחית בתור היחס בין מומנט הדיפול לנפח:

P=pδv=pδAδl

בהינתן P, אפשר לרשום:

p=Pδv=(PδA)δl=δQδlאת הפולריזציה ניתן לייצג כאילו על פאה יש מטען Q=pA והם מופרדים זה מזה במרחק של l.

עבור איזושהי חתיכה של חומר:

Qp,surface=Pdaמאחר וסך הכל מטען הפולריזציה צריך להיות אפס:Qp,volume=Pdaנביט בקשר הזה, עבור נפח קטן Δv:ρp=Qp,volumeΔv=1ΔvPda=Δv0Pρp=Pנשים לב לכך שאם P אחיד, אז ρp=0.

צפיפות משטחית של מטעני הפולריזציה

נוכל למצוא ביטוי לצפיפות המשטחית מחוק גאוס:

Qin=ϵ0Edaη=n^(ϵ0E2ϵ0E1) ומסך המטען: Qp=Pdaηp=n^(P2P1)

זרמי פולריזציה

נסתכל על השינוי בזמן באלמנט מטען קטן δQ=PδA:I=d(δQ)dt=ddt(PδA)=dPdtJpδA=JpδAכאשר השינוי בזמן של P מוגדר על ידי זרם אפקטיבי שחולף בתיבה - זרם פולריזציה Jp.

ביחד עם הקשר ρp=P נקבל את חוק שימור מטען הפולריזציה:Jp=dρpdtנקבל: ηp=n^(P2P1) אם נגזור בזמן את הביטוי שקיבלנו עבור צפיפות המטען המשטחית, נקבל:dηpdt==n^(P2tP1t)n^(J2,pJ1,p)כלומר, אין זרמי פולריזציה משטחיים! (אלא אם יש תנועה מכנית)

משוואות מקסוול בחומר

{×E=(μ0H)t(ϵ0E)=ρf+(P)×H=(ϵ0E)t+Jf+Pt(μ0H)=0המקורות לשדה החשמלי הם כלל המטענים בבעיה - מטענים חופשיים ומטעני פולריזציה.

תנאי השפה המגיעים ממשוואות מקסוול בתנאים אלו:{n^×(E2E1)=0n^(ϵ0E2ϵ0E1)=ηf+(n^[P2P1])n^×(H2H1)=Kfn^(μ0H2μ0H1)=0נשים לב, כי ניסוח משוואות מקסוול אותן יש לפתור בסופו של דבר הצריך 3 צעדים עיקריים:

  1. מידול התגובה המקרוסקופית של החומר (ענן אלקטרונים שמוסט כתוצאה מהפעלת שדה חשמלי חיצוני), וחישוב פילוג המקורות שנוצר בעקבותיה.
  2. הגדרת וקטור פולריזציה רציף בעזרת המודל המיקרוסקופי. אנחנו למעשה הגדרנו איזשהו תא יחידה, והנחנו שמיצוע פשוט של הדיפולים בתא היחידה הזה יתן את וקטור הפולריזציה. צעד זה נסמך למעשה על תאוריית הלאוזייס - מזוטי, על אף שהיא נפוצה, היא לא מדויקת ובמקרים רבים לא ניתן להשתמש בה כדי להסביר תופעות ניסיוניות.
  3. מתוך וקטור הפולריזציה חישוב התפלגות מטען הפולריזציה המקרוסקופיץ צעד זה אינו בעייתי ותמיד נכון, כל עוד אנחנו עובדים בתחום שבו ניתן להגדיר וקטור פולריזציה מקרוסקופי.

דוגמה (איור 7)

איור 7

נתון לוח של חומר פעיל בו שוררת הפולריזציה הנתונה. חשבו את השדה החשמלי בכל המרחב.ρp=P=zPz=P0dעל השפות:ηp,z=0=z^(Pz=00)=0ηp,z=d=z^(0Pz=d)=z^(0P0z^)=P0Qp=ρpAd+ηp,z=dA=P0dAd+P0A=0הבעיה השקולה: מטעני פולריזציה בואקום!

מאחר וסך מטעני הפולריזציה ליחידת שטח הוא אפס ויש סימטריה של לוח אינסופי, נקבל E=0 מחוץ ללוח, כלומר ב-z<0,z>d. משיקולי סימטריה: E=E(z)z^.

איור 8

נשתמש בחוק גאוס האינטגרלי. נגדיר מעטפת (הפאה העליונה נמצאת בקואורדינטה z)ϵ0Eda=Qinϵ0E(z)A=P0dAzE(z)=P0dϵ0z ניתן לראות שרטוט סכמטי של הפיתרון באיור (8).

משוואות מקסוול בחומר - וקטור ההעתקה

נוכל לרשום את משוואות מקסוול בנוכחות פולריזציה בעזרת וקטור ההעתקה D=ϵ0E+P, צפיפות שטף חשמלי:{(ϵ0E)=ρf+(P)(ϵ0E+P)D - displacement vector=ρf×H=(ϵ0E)t+Jf+Pt×H=t(ϵ0E+P)+Jfn^(ϵ0E2ϵ0E1)=ηf+(n^[P2P1])n^((ϵ0E2+P2)(ϵ0E1+P1))=ηfנוכל לרשום:{×E=(μ0H)t(ϵ0D)=ρf×H=Dt+Jf(μ0H)=0ותנאי השפה:{n^×(E2E1)=0n^(D2D1)=ηfn^×(H2H1)=Kfn^(μ0H2μ0H1)=0המקורות לשדה ההעתקה D הם המטענים החופשיים בבעיה.

מנגנונים ליצירת פולריזציה:

  • Pyroelectric materials (נוצרת פולריזציה בתגובה לשינוי בטמפרטורה)
  • Piezoelectric materials (נוצרת פולריזציה בתגובה להפעלת מאמץ חיצוני)
  • Ferroelectric materials (קיים תהליך טבעי שיוצר פולריזציה בלי הפעלת השפעה חיצונית)
  • Bi-anisotropic materials

הקשר בין השדה החשמלי E, הפולריזציה P ושדה ההעתקה D

איור 9 - תלות בין P ל E

סוספטביליות ומקדם דיאלקטרי

אנחנו נתעניין בחומרים לינאריים בהם מתקיים:P=ϵ0χeEכאשר מגדירים את הסוספטביליות χe, המתארת בעיקר את התגובה של החומר כאשר השדות חלשים. נוכל כעת לכתוב את וקטור שדה ההעתקה D:D=ϵ0E+P=ϵ0E+ϵ0χeE=ϵ0(1+χe)Eכאשר 1+χe הוא המקדם הדיאלקטרי היחסי המסומן ב-ϵr, ו-ϵ0(1+χe) הוא המקדם הדיאלקטרי המסומן ב-ϵ.

תכונות של חומרים לינאריים

  • איזוטרופיות - החומר מגיב באופן זהה לכל הכיוונים של השדה שמופעלים עליו (או בתוכו). כלומר, ϵ ו-χe הם סקלרים. אם זה לא כך, ϵ ו-χe הן מטריצות. במצב זה נוכל לכתוב את שדה ההעתקה באופן הבא:D=ϵ0E+P=ϵ0(𝕀+χe)E=ϵ0ϵrEלדוגמה, אם χe תהיה מטריצה 3×3, גם ϵ תהיה מטריצה מסדר זה.
  • הומוגניות - כאשר תכונות החומר, ϵ, לא תלויות במיקום. כאשר התווך אינו הומוגני מתקיים ϵ=ϵ(r)

ברגע שיודעים מהו ϵ, אז אפשר להכניס אותו לתוך המשוואה ולפתור:D=ρf(ϵE)=ρf×H=Dt+Jf×H=(ϵE)t+Jfעם תנאי השפה:n^(D2D1)=ηfn^(ϵ2E2ϵ1E1)=ηf

מטען נקודתי בתוך חומר דיאלקטרי

כאשר עסקנו במטען נקודתי בואקום, השדה אותו יוצר המטען למעשה מקיים:

E=ρϵ0=δ(rr0)ϵ02ϕ=δ(rr0)ϵ0התוצאה היא כמובן הפוטנציאל:

ϕ=q4πϵ0|rr|

תווך אינסופי (איור 10)

איור 10

D=q4πr2r^D=ϵEE=DϵE=q4πϵr2r^

כדור סופי (איור 11)

איור 11

מטעמי סימטריה מתקיים E=E(r)r^,D=D(r)r^. נקבל את תנאי השפה:n^(DoutDin)=ηf=0מכאן נובע:D=ρfDn^ds=Qf,inשדה ההעתקה:D=q4πr2r^והשדה החשמלי:{E=q4πϵr2r^r<aE=q4πϵ0r2r^r>aתנאי שפה עבור E בוואקום:n^(ϵ0E2ϵ0E1)=ηtot=ηf+ηpolנמצא את הפולריזציה:D=ϵE=ϵ0E+PP=(ϵϵ0)EP={q4πϵr2r^(ϵϵ0)r<a0  r>aכעת נוכל למצוא את צפיפות המטען המשטחית (על שפת הכדור) הנובעת ממטעני הפולריזציה:ηp=r^(PoutPin)=q4πϵa2(ϵϵ0)Qp=qϵϵ0ϵסך מטעני הפולריזציה חייב להיות אפס. את המטען עצמו נוכל לקבל מחוק גאוס:ϵ0En^ds=Qf+Qpolϵ0q4πϵr24πr2=q+Qpolϵ0ϵq=q+QpolQpol=ϵ+ϵ0ϵqוזהו בדיוק Qp,surface כך שסך מטען הפולריזציה הוא אכן אפס.

דוגמה (איור 12)

איור 12

נתון כדור בעל מקדם דיאלקטרי ϵ, מוקף בריק. הכדור מוכנס לשדה אחיד. מצאו את השדות בכל המרחב.

הבעיה סטטית ולכן ניתן לרשום את השדה החשמלי בתור גרדיאנט של פונקציה סקלרית:×E=0E=ϕבהצבה במשוואות מקסוול נקבל:(ϵE)=0(ϵ(ϕ))=0מאחר ו-ϵ הומוגני נקבל:ϵ2ϕ=0וזוהי משוואת לפלס.

תנאי השפה בבעיה:{ϕout(r>>a)=E0z=E0rcosθr^(ϵ0EoutϵEin)|r=a=0r^[ϵ0ϕoutr(ϵϕinr)]r=a=0ϕout(r=a)=ϕin(r=a)ϕin(r0)< נבחר פוטנציאל:{ϕout=(Ar+Br2)cosθϕin=Crcosθכאשר זרקנו את התלות ב-1r2 בפוטנציאל הפנימי כדי לקיים את תנאי השפה הרביעי.

מתנאי השפה השלישי והראשון בהתאמה נקבל:{Aa+Ba2=Caϕout(r>>a)=Arcosθ=E0rcosθA=E0נציב בתנאי השפה השני את הנגזרות של הפוטנציאל:ϕoutr=(A2Br3)cosθ,ϕinr=Ccosθונקבל:ϵ0(A2Ba3)=ϵCבסך הכל, המקדמים אשר נקבל עבור הפוטנציאל הם:{A=E0B=a3ϵr1ϵr+2E0C=a33ϵr+2E0כאשר ϵr=ϵϵ0. לכן, הפוטנציאל והשדה החשמלי מחוץ לכדור:{ϕout=(E0r+E0a3ϵr1ϵr+21r2)cosθEout=E0z^+ϵr1ϵr+2E0a3r3(2cosθr^+sinθθ^)כעת נוכל לחשב את הקיטוביות:ϕdipole=p4πϵ01r2cosθבבעיה שלנו, נמצא את הקיטוביות בעזרת השוואת מקדמים:p4πϵ0=E0a3ϵr1ϵr+2p=4πϵ0a3ϵr1ϵr+2E0הקיטוביות מוגדרת על ידי p=ϵ0αE, לכן נוכל לרשום:α=4πa3ϵr1ϵr+2=3Vϵr1ϵr+2כעת נסתכל על השדה והפוטנציאל בתוך הכדור:{ϕin=3E02+ϵrrcosθEin=32+ϵrz^מתקיים Ein=Eout+Erespond ולכן שדה התגובה:Erespond=ϵr1ϵr+2E0z^

איור 13 - שרטוט הפיתרון

דוגמה 2 (איור 14)

איור 14

חשבו את הקיבול של קבל שכבות.

מטעמי סימטריה מתקיים E=E(z)z^,D=D(z)z^

בתוך הקבל D אחיד: D=D0z^. נסתכל על צפיפות המטען המשטחית על הלוח העליון:ηf=z^(DoutDin)=D0ולכן המטען ובהתאם הקיבול:Q=|D0|AC=QV=|D0|AVבשכבה ה-i מתקיים:D=ϵED0z^=ϵiEiEi=D0ϵiz^המתח הכולל יתקבל על ידי סכימה על הפוטנציאלים שנצברים בכל שכבה:V=D0ϵidiC=D0AD0ϵidi=Adiϵi=1diϵiAנשים לב לכך שהתוצאה שקיבלנו שקולה לחיבור קבלים בטור.

אם השתנות ϵ רציפה ϵ=ϵ(z) נוכל לחלק לשכבות בעובי dz ונקבל:1Ceq=1Adzϵ(z)במקור הגדרנו: p=αEנגדיר מחדש: p=ϵ0αEכאשר: [α]=m3