פרק 10 - שדות חשמליים בחומר: Difference between revisions

From EM Fields - TAU
Jump to navigation Jump to search
Line 205: Line 205:
אנחנו נתעניין בחומרים לינאריים בהם מתקיים:
אנחנו נתעניין בחומרים לינאריים בהם מתקיים:
<math display="block">\vec {P}}=\epsilon _{0}\chi _{e}{\vec {E}</math>
<math display="block">\vec {P}}=\epsilon _{0}\chi _{e}{\vec {E}</math>
כאשר <math>\chi_e </math> היא הסוספטיביליות החשמלית, מרבית החומרים בטבע מגיבים בצורה זו כאשר השדות בחומר אינם חזקים מדי. נוכל כעת לכתוב את וקטור שדה ההעתקה <math>\vec D</math> באופן הבא
כאשר <math>\chi_e </math> היא הסוספטיביליות החשמלית. חומרים רבים בטבע מגיבים בצורה זו כאשר השדות בחומר אינם חזקים מדי. נוכל כעת לכתוב את וקטור שדה ההעתקה <math>\vec D</math> באופן הבא
<math display="block">\vec D = \epsilon_0 \vec E + \vec P = \epsilon_0 \vec E + \epsilon_0 \chi_e \vec E = \epsilon_0(1 + \chi_e) \vec E</math>
<math display="block">\vec D = \epsilon_0 \vec E + \vec P = \epsilon_0 \vec E + \epsilon_0 \chi_e \vec E = \epsilon_0(1 + \chi_e) \vec E</math>
כאשר <math>1 + \chi_e </math> הוא המקדם הדיאלקטרי היחסי המסומן ב-<math>\epsilon_r </math>, ו-<math>\epsilon_0(1 + \chi_e) </math> הוא המקדם הדיאלקטרי המסומן ב-<math>\epsilon </math>.
כאשר <math>1 + \chi_e </math> הוא המקדם הדיאלקטרי היחסי המסומן ב-<math>\epsilon_r </math>, ו-<math>\epsilon_0(1 + \chi_e) </math> הוא המקדם הדיאלקטרי המסומן ב-<math>\epsilon </math>.

Revision as of 12:45, 24 January 2023


שדות חשמליים בחומר

איור 1

עד כה עסקנו בהתנהגות השדה החשמלי והמגנטי בואקום - כלומר בהעדר חומר כלשהו. במציאות, כמובן שכל התופעות מתרגשות בתוך חומר כלשהו. מטרתנו בפרק זה היא להבין כיצד מתארים את האינטראקציה של החומר עם השדה החשמלי, ומתוך תאור זה לקבל מודל כמותי המאפשר להביא בחשבון את תכונות החומרים בתוך משוואות מקסוול. נקודה חשובה אותה כבר הזכרנו, ועומדת בבסיס המודלים אותם נציג בפרק זה היא הנקודה הבאה:

  • תגובת החומר לשדה החשמלי באה לידי ביטוי בתגובת המטענים שבחומר לשדה, ובפרט ביצירת פילוג מטענים "חדש" בחומר בתגובה להפעלת שדה חיצוני. ברגע שנדע לחשב את פילוג המטענים ה"מושרה" על ידי השדה החיצוני, השדה הכולל יהיה השדה החינוני בתוספת לשדה אותו יוצר הפילוג המושרה, כאילו היו מונחים בואקום.

חומרים מוליכים

בפרקים קודמים כבר הזכרנו את התנהגות השדות החשמליים בתוך חומרים מוליכים, כאשר את תגובת החומר (הזרם שנוצר כתוצאה מהפעלת שדה חשמלי כלשהו) תארנו באמצעות חוק אוהם J→=σE→

בפרק זה ננסה להסביר מעט יותר טוב מאיפה חוק זה נובע, באמצעות מודל פשטני למדי, אך יעיל. נניח כי קיים במרחב "ענן" פילוג מטען כלשהו ρ(r→) כמוראה באיור 1, ונושאי המטען נעים במהירות v→(r→). על פי הגדרת הזרם כמטען שחולף דרך חתך מסוים ליחידת זמן, ניתן לרשום ביטוי לצפיפות הזרם J→=ρ(r)⋅v→(r) אם נניח שפילוג המטען בנוי מחלקיקים נושאי מטען בצפיפות נפחית n(r→), ומטענו של כל חלקיק הוא q, נקבל J→=n(r→)⋅q⋅v→(r)

איור 2

במקרה הכללי ביותר, ייתכן ופילוג המטען מורכב מיותר מסוג אחד של חלקיקים, כאשר לחלקיקים מסוג k תהיה צפיפות nk(r→), מטען qk, ופילוג מהירויות v→(r→). במקרה זה ניתן לרשום את צפיפות הזרם המרחבית על ידי J→=∑nk⋅qk⋅v→k חשוב לציין ש-qk יכול להיות גם שלילי וגם חיובי (מה שיוביל לצפיפות זרם הפוכה בכיוונה).

מודל Drude

איור 3 - פאול דרודה

מודל דרודה הוא מודל קלאסי מקורב המתאר את האינטראקציה של מטענים חופשיים בחומר עם שדה חשמלי. במודל דרודה, מסתכלים על מטענים אשר חופשיים לנוע בתגובה להפעלת שדה חשמלי חיצוני E→. במצב זה, ניתן לכתוב את משוואת התנועה עבור החוק השני בצורה הבאה: m⋅v→˙=qE→−νv→ כאשר ν הינו מקדם החיכוך האפקטיבי הגורם לכוחות מעכבים לפעול על המטענים הנעים בחומר. כשהמערכת מתייצבת (בין אם ההתייצבות נובעת משדות סטטיים לחלוטין, ובין אם קצב השינוי של השדות במערכת הרבה יותר איטי מזמן ההתייצבות האופייני), מתקיים v→˙=0 ואז ניתן לרשום:

qE→=νv→⇒v→=qνE→=v→d

כאשר v→d מוגדרת להיות המהירות בשיווי משקל (נקראת "מהירות הסחיפה", או drift velocity).

מקובל לסמן μ=qν - מוביליות נושאי המטען.

אם נציב את הביטוי ל-v→d במשוואה המתארת את צפיפות הזרם, נקבל: J→=∑nk⋅qk⋅v→k=∑nk⋅qk⋅qkνkE→=∑nk⋅qk2νk⏟≡σE→=σE→ כלומר, קיבלנו מתוך מודל דרודה את חוק אוהם, כאשר σ המוליכות הסגולית, והיא פרמטר התלוי בצפיפות נושאי המטען בחומר, מקדם ה"חיכוך", ומטענם של נושאי המטען.

את משוואות השדה ותנאי השפה בחומר המקיים את חוק אוהב כבר ראינו בפרק 8.

פולריזציה

איור 4 - פולריזציה

לא תמיד יש אלקטרונים שחופשיים לנוע, לפעמים האלקטרונים "קשורים" אבל יכולה להיות סטייה במיקומם ביחס לגרעין.

איור 5

אין זה המקום להכנס למודלים מדויקים של פילוג המטען סביב אטום, אך באופן כללי מיקום האלקטרון מתואר ע"י פונקציית גל קוונטית Ψ, כאשר|Ψ|2 מתארת לנו את ההסתברות למצוא את האלקטרון במיקום מסוים סביב הגרעין.

כאשר מופעל שדה חיצוני, הוא "מעוות" את ענן האלקטרונים (פונקציית הגלת איור 4), והמיקום הממוצע של האלקטרונים נתון על ידי הביטוי:

∫r→ψ(r,t)⋅ψ*(r,t)dr

ללא שדה, צפוי שמרכז הכובד של של ההסתברות יהיה במרכז האטום, אך בהפעלת השדה, המיקום הממוצע של האלקטרונים כבר לא יהיה במרכז וייווצר דיפול שקול בחומר.

בחומרים מסוימים, לדוגמא מים (איור 5), למולקולות המרכיבות אותם קיים מומנט דיפול באופן טבעי, ואז הפעלה של שדה חשמלי חיצוני גם נוטה "ליישר" את כל הדיפולים בכיוון השדה.

כמובן, שקיימים מקרים רבים בהם שני מנגנוני קיטוב אלו תורמים לתגובת החומר.

מודל מקרוסקופי

איור 6

המודל המיקרוסקופי (כלומר מודל המתאר תגובה של אטום או מולקולה בודדים לשדה בסביבתם) אותו תארנו אינו קשור באופן ישיר למשוואות מקסוול. המטרה שלנו, כעת, היא למצוא פרמטרים מקרוסקופיים ממוצעים, שאותם נוכל להציב במשוואות מקסוול ולפתור את השדות בנוכחות חומרים.

כבר ציינו, שעל מנת להבין טוב את האינטראקציה בין החומר לשדה עלינו לקבל את פילוג המטען שנוצר בחומר בתגובה להפעלת השדה החיצוני וממנו ניתן יהיה לחשב את השדה המלא כשדה שנוצר ע"י המקורות החיצוניים + פילוג המטען בחומר.

נניח כי קיים חומר כלשהו שהפעלת שדה חיצוני גרמה להתקטבות המטען בתוכו, וליצירת מוומנט דיפול כלשהו באטומים המרכיבים אותו (איור 6). נביט בתיבה קטנה מתוך החומר.

אם נניח שמומנט הדיפול של כל אטום או מולקולה הוא p→atom, ובתיבה יש N דיפולים, נקבל שמומנט הדיפול השקול של החומר בתיבה הוא P→=N⋅p→atom. נוכל להגדיר את צפיפות הדיפולים הנפחית בתור היחס בין מומנט הדיפול לנפח:

P→=p→δv=p→δA→⋅δl→

בהינתן P→, אפשר לרשום:

p→=P→⋅δv=(P→⋅δA→)δl→=δQ⋅δl→

מאחר ומומנט דיפול מוגדר על ידי p→=Qd→, נסיק כי את הפולריזציה ניתן לייצג כאילו על פאה יש מטען δQ=P→⋅δA→ והם מופרדים זה מזה במרחק של δl→. באופן דומה, אם היינו עושים את החישוב על הפאה התחתונה, היינו מקבלים δQ=−P→⋅δA→/

בעצם מה שקיבלנו הוא שכדי ליצור את תגובת החומר שבתיבה לשדה החשמלי, באופן אפקטיבי "הועתקה" כמות מטען של δq מהדופן התחתונה לעליונה, למרחק של δl→ בין פילוגי המטען.

אם נכליל את התוצאה, כדי לחשב את סך מטען הפולריזציה המשטחי על דפנות התיבה, עלינו לסכם ולקבל Qp,surface=∮P→⋅δa→

מאחר והחומר הוא ניטרלי מבחינת סך המטען שבו (נזכור כי המודל שלנו עבור הפולריזציה הוא דיפולים שנוצרים בתגובה לשדה, וסך המטען בכל דיפול הוא אפס), ברור כי סך המטען בכל נפח שנבחר חייב להתאפס, ולכן Qp,volume=−∮P→⋅da→ נביט בקשר הזה, עבור נפח קטן Δv:

ρp=Qp,volumeΔv=−1Δv∮P→⋅da→=Δv→0−∇⋅P→

⇒ρp=−∇⋅P→ כאשר השתמשנו בהגדרת הדיברגנץ.

נשים לב לכך שאם P→ אחיד, אז ρp=0.

צפיפות משטחית של מטעני הפולריזציה

כעת, כשיש לנו חוקים אינטגרלים הקושרים את מטעני הפולריזציה לוקטור הפולריזציה בחומר, נוכל לבצע לוקליזציה של הביטויים האינטגרלים סביב שפות, על מנת לקבל את צפיפות מטען הפולריזציה המשטחית. למעשה, אין צורך לחזור על התהליך, וניתן להשתמש בדמיון ה"ויזואלי" לחוק גאוס הקשר בין חוק גאוס האינטגרלי, לתנאי השפה לחוק גאוס הוא Qin=∮ϵ0E→⋅da→⟹η=n^⋅(ϵ0E→2−ϵ0E→1) ולכן, באופן אנלוגי לחלוטין נקבל את הקשר בין אי רציפות בוקטור הפולריזציה לצפיפות משטחית של מטען הפולריזציה Qp=−∮P→⋅da→⟹ηp=−n^⋅(P→2−P→1)

זרמי פולריזציה

נסתכל על השינוי בזמן באלמנט קטן של מטען פולריזציה משטחי δQ=P→⋅δA→. הזרם ה"נכנס" לשפה, קשור לשינוי זה על ידי

I=d(δQ)dt=ddt(P→⋅δA→)=dP→dt⏟≡J→p⋅δA→=J→p⋅δA→ כאשר השינוי בזמן של P→ הוא למעשה צפיפות נפחית של זרם שחולף בתיבה - זרם פולריזציה J→p.

ביחד עם הקשר ρp=−∇⋅P→ נקבל את חוק שימור מטען הפולריזציה:∇⋅J→p=−dρpdtנקבל: ηp=−n^⋅(P→2−P→1)

אם נגזור בזמן את הביטוי שקיבלנו עבור צפיפות המטען המשטחית, נקבל: dηpdt=−n^⋅(∂P→2∂t−∂P→1∂t)=−n^⋅(J→2,p−J→1,p) כלומר, אין זרמי פולריזציה משטחיים! (אלא אם יש תנועה מכנית)

משוואות מקסוול בחומר

אם נסכם את פרטי המודל עד כה, קיבלנו שקיומה של פולריזציה בחומר ניתן לתאור על ידי פילוג מטען אפקטיבי המונח בואקום. אם נכניס פילוג מטען זה למשוואות מקסוול, נקבל {∇×E→=−∂(μ0H)∂t∇⋅(ϵ0E→)=ρf+(−∇⋅P→)∇×H→=∂(ϵ0E→)∂t+J→f+∂P→∂t∇⋅(μ0H→)=0 המקורות לשדה החשמלי הם כלל המטענים בבעיה - מטענים חופשיים ומטעני פולריזציה.

תנאי השפה המגיעים ממשוואות מקסוול בתנאים אלו: {n^×(E→2−E→1)=0n^⋅(ϵ0E→2−ϵ0E→1)=ηf+(−n^⋅[P→2−P→1])=ηf+ηpn^×(H→2−H→1)=K→fn^⋅(μ0H→2−μ0H→1)=0 נשים לב, כי ניסוח משוואות מקסוול אותן יש לפתור בסופו של דבר הצריך 3 צעדים עיקריים:

  1. מידול התגובה המקרוסקופית של החומר (ענן אלקטרונים שמוסט כתוצאה מהפעלת שדה חשמלי חיצוני), וחישוב פילוג המקורות שנוצר בעקבותיה.
  2. הגדרת וקטור פולריזציה מקרוסקופי, רציף וממוצע בעזרת המודל המיקרוסקופי. למעשה הגדרנו תא יחידה, והנחנו שמיצוע פשוט של הדיפולים בתא היחידה הזה יתן את וקטור הפולריזציה. צעד זה נסמך למעשה על תאוריית קלאוזיוס - מזוטי. על אף שהיא נפוצה, היא לא מדויקת ובמקרים רבים לא ניתן להשתמש בה כדי להסביר תופעות ניסיוניות.
  3. מתוך וקטור הפולריזציה חישוב התפלגות מטען הפולריזציה המקרוסקופית צעד זה אינו בעייתי ותמיד נכון, כל עוד אנחנו עובדים בתחום שבו ניתן להגדיר וקטור פולריזציה מקרוסקופי.

דוגמה - לוח בעל פוריזציה אחידה

איור 7

נתון לוח של חומר פעיל בו שוררת הפולריזציה P→=P0z^ (איור 7). חשבו את השדה החשמלי בכל המרחב. נתחיל מחישוב צפיפות מטעני הפולריזציה ρp=−∇⋅P→=−∂∂zPz=−P0d

על השפות: ηp,z=0=−z^⋅(Pz=0−0)=0 ηp,z=d=−z^⋅(0−Pz=d)=−z^⋅(0−P0z^)=P0 Qp=ρp⋅A⋅d+ηp,z=d⋅A=−P0d⋅A⋅d+P0⋅A=0 הבעיה השקולה: מטעני פולריזציה בואקום!

מאחר וסך מטעני הפולריזציה ליחידת שטח הוא אפס ויש סימטריה של לוח אינסופי, נקבל E→=0 מחוץ ללוח, כלומר ב-z<0,z>d. משיקולי סימטריה: E→=E(z)z^.

איור 8

נשתמש בחוק גאוס האינטגרלי. נגדיר מעטפת (הפאה העליונה נמצאת בקואורדינטה z)∮ϵ0E→⋅da→=Qin⇒ϵ0E(z)⋅A=−P0d⋅A⋅z⇒E(z)=−P0dϵ0⋅z ניתן לראות שרטוט סכמטי של הפיתרון באיור (8).

משוואות מקסוול בחומר - וקטור ההעתקה

נשים לב שבאופן אלטרנטיבי ניתן לרשום את משוואות מקסוול שבהן מופיעה הפולריזציה גם באופן הבא {∇⋅(ϵ0E→)=ρf+(−∇⋅P)⟹∇⋅(ϵ0E→+P→)=ρf∇×H→=∂(ϵ0E→)∂t+J→f+∂P→∂t⇒∇×H→=∂∂t(ϵ0E→+P→)+J→fn^⋅(ϵ0E2−ϵ0E1)=ηf+(−n^⋅[P2−P1])⇒n^⋅((ϵ0E→2+P→2)−(ϵ0E→1+P→1))=ηf מבנה זה מרמז שיהיה שימושי להגדיר את וקטור ההעתקה D→=ϵ0E→+P→ ואז נוכל לרשום

{∇×E→=−∂(μ0H)∂t∇⋅(ϵ0D→)=ρf∇×H=∂D∂t+Jf∇⋅(μ0H)=0 ותנאי השפה: {n^×(E2−E1)=0n^⋅(D2−D1)=ηfn^×(H2−H1)=Kfn^⋅(μ0H2−μ0H1)=0 המקורות לשדה ההעתקה D→ הם המטענים החופשיים בלבד, בעוד שכבר ראינו שהמקורות לשדה החשמלי E→ הם המטענים החופשיים ומטעני הפולריזציה.

מנגנונים ליצירת פולריזציה:

  • Pyroelectric materials (נוצרת פולריזציה בתגובה לשינוי בטמפרטורה)
  • Piezoelectric materials (נוצרת פולריזציה בתגובה להפעלת מאמץ חיצוני)
  • Ferroelectric materials (קיים תהליך טבעי שיוצר פולריזציה בלי הפעלת השפעה חיצונית)
  • Bi-anisotropic materials

הקשר בין השדה החשמלי E, הפולריזציה P ושדה ההעתקה D

קיימים סוגים רבים של חומרים, בהם מתקיימים קשרים שונים בין השדה החשמלי השורר בחומר ווקטור הפורלריזציה. באיור 9 מוצגות מספר דוגמאות. מימין - חומר אלקטרו-פעיל טהור בו שוררת פולריזציה קבועה ללא תלות בשדה החשמלי המופעל. במרכז, חומר פסיבי, בו פולריזציה נוצרת רק בתגובה לשדה חיצוני, ומתאפסת כאשר ערך השדה חוזר לאפס. משמאל - מודל היסטרזיס. חומר שבו לאחר כיבוי השדה החשמלי נותרת פולריזציה שיורית (בדומה למגנוט של פיסת ברזל). חומרים שמגיבים כך יותר נפוצים במקרה המגנטי, ונדון בתגובה מסוג זה (לולאת היסטרזיס) כאשר נדון בחומרים מגנטיים.

איור 9 - תלות בין P ל E

סוספטביליות ומקדם דיאלקטרי

אנחנו נתעניין בחומרים לינאריים בהם מתקיים: P→=ϵ0χeE→ כאשר χe היא הסוספטיביליות החשמלית. חומרים רבים בטבע מגיבים בצורה זו כאשר השדות בחומר אינם חזקים מדי. נוכל כעת לכתוב את וקטור שדה ההעתקה D→ באופן הבא D→=ϵ0E→+P→=ϵ0E→+ϵ0χeE→=ϵ0(1+χe)E→ כאשר 1+χe הוא המקדם הדיאלקטרי היחסי המסומן ב-ϵr, ו-ϵ0(1+χe) הוא המקדם הדיאלקטרי המסומן ב-ϵ.

תכונות של חומרים לינאריים

  • איזוטרופיות - החומר מגיב באופן זהה לכל הכיוונים של השדה שמופעלים עליו (או בתוכו). כלומר, ϵ ו-χe הם סקלרים. אם זה לא כך, ϵ ו-χe הן מטריצות. במצב זה נוכל לכתוב את שדה ההעתקה באופן הבא:D→=ϵ0E→+P→=ϵ0(𝕀+χe)E→=ϵ0ϵrE→לדוגמה, אם χe תהיה מטריצה 3×3, גם ϵ תהיה מטריצה מסדר זה.
  • הומוגניות - כאשר תכונות החומר, ϵ, לא תלויות במיקום. כאשר התווך אינו הומוגני מתקיים ϵ=ϵ(r→)

ברגע שיודעים מהו ϵ, אז אפשר להכניס אותו לתוך המשוואה ולפתור:∇⋅D→=ρf⇒∇⋅(ϵE→)=ρf∇×H→=∂D→∂t+J→f⇒∇×H→=∂(ϵE→)∂t+Jfעם תנאי השפה:n^⋅(D→2−D→1)=ηf⇒n^⋅(ϵ2E→2−ϵ1E→1)=ηf

מטען נקודתי בתוך חומר דיאלקטרי

כאשר עסקנו במטען נקודתי בואקום, השדה אותו יוצר המטען למעשה מקיים:

∇⋅E→=ρϵ0=δ(r−r0)ϵ0⇒∇2ϕ=−δ(r−r0)ϵ0התוצאה היא כמובן הפוטנציאל:

ϕ=q4πϵ0|r−r′|

תווך אינסופי (איור 10)

איור 10

D→=q4πr2⋅r^D→=ϵE→⇒E→=D→ϵ⇒E→=q4πϵr2⋅r^

כדור סופי (איור 11)

איור 11

מטעמי סימטריה מתקיים E→=E(r)⋅r^,D→=D(r)⋅r^. נקבל את תנאי השפה:n^⋅(Dout−Din)=ηf=0מכאן נובע:∇⋅D→=ρf⇔∫D→⋅n^ds=Qf,inשדה ההעתקה:D→=q4πr2⋅r^והשדה החשמלי:{E→=q4πϵr2⋅r^r<aE→=q4πϵ0r2⋅r^r>aתנאי שפה עבור E→ בוואקום:n^⋅(ϵ0E→2−ϵ0E→1)=ηtot=ηf+ηpolנמצא את הפולריזציה:D→=ϵE→=ϵ0E→+P→⇒P→=(ϵ−ϵ0)E→P→={q4πϵr2→⋅r^(ϵ−ϵ0)r<a0  r>aכעת נוכל למצוא את צפיפות המטען המשטחית (על שפת הכדור) הנובעת ממטעני הפולריזציה:ηp=−r^⋅(P→out−P→in)=q4πϵa2⋅(ϵ−ϵ0)Qp=qϵ−ϵ0ϵסך מטעני הפולריזציה חייב להיות אפס. את המטען עצמו נוכל לקבל מחוק גאוס:∫ϵ0E→⋅n^ds=Qf+Qpolϵ0q4πϵr24πr2=q+Qpolϵ0ϵq=q+Qpol⇒Qpol=−ϵ+ϵ0ϵqוזהו בדיוק −Qp,surface כך שסך מטען הפולריזציה הוא אכן אפס.

דוגמה (איור 12)

איור 12

נתון כדור בעל מקדם דיאלקטרי ϵ, מוקף בריק. הכדור מוכנס לשדה אחיד. מצאו את השדות בכל המרחב.

הבעיה סטטית ולכן ניתן לרשום את השדה החשמלי בתור גרדיאנט של פונקציה סקלרית:∇×E→=0⇒E→=−∇ϕבהצבה במשוואות מקסוול נקבל:∇⋅(ϵE)=0⇒∇⋅(ϵ⋅(−∇ϕ))=0מאחר ו-ϵ הומוגני נקבל:ϵ∇2ϕ=0וזוהי משוואת לפלס.

תנאי השפה בבעיה:{ϕout(r>>a)=−E0z=−E0rcos⁡θr^⋅(ϵ0E→out−ϵE→in)|r=a=0⇒r^⋅[−ϵ0∂ϕout∂r−(−ϵ∂ϕin∂r)]r=a=0ϕout(r=a)=ϕin(r=a)ϕin(r→0)< ″∞″נבחר פוטנציאל:{ϕout=(Ar+Br2)cos⁡θϕin=Crcos⁡θכאשר זרקנו את התלות ב-1r2 בפוטנציאל הפנימי כדי לקיים את תנאי השפה הרביעי.

מתנאי השפה השלישי והראשון בהתאמה נקבל:{Aa+Ba2=Caϕout(r>>a)=Arcos⁡θ=−E0rcos⁡θ⇒A=−E0נציב בתנאי השפה השני את הנגזרות של הפוטנציאל:∂ϕout∂r=(A−2Br3)cos⁡θ,∂ϕin∂r=Ccos⁡θונקבל:ϵ0(A−2Ba3)=ϵCבסך הכל, המקדמים אשר נקבל עבור הפוטנציאל הם:{A=−E0B=−a3⋅ϵr−1ϵr+2E0C=a3⋅3ϵr+2E0כאשר ϵr=ϵϵ0. לכן, הפוטנציאל והשדה החשמלי מחוץ לכדור:{ϕout=(−E0r+E0a3⋅ϵr−1ϵr+21r2)cos⁡θE→out=E0z^+ϵr−1ϵr+2⋅E0⋅a3r3⋅(2cos⁡θr^+sin⁡θθ^)כעת נוכל לחשב את הקיטוביות:ϕdipole=p4πϵ01r2cos⁡θבבעיה שלנו, נמצא את הקיטוביות בעזרת השוואת מקדמים:p4πϵ0=E0⋅a3⋅ϵr−1ϵr+2⇒p=4πϵ0a3⋅ϵr−1ϵr+2E0הקיטוביות מוגדרת על ידי p→=ϵ0αE→, לכן נוכל לרשום:α=4πa3⋅ϵr−1ϵr+2=3V⋅ϵr−1ϵr+2כעת נסתכל על השדה והפוטנציאל בתוך הכדור:{ϕin=−3E02+ϵr⋅rcos⁡θE→in=32+ϵrz^מתקיים E→in=E→out+E→respond ולכן שדה התגובה:E→respond=−ϵr−1ϵr+2E0z^

איור 13 - שרטוט הפיתרון

דוגמה 2 (איור 14)

איור 14

חשבו את הקיבול של קבל שכבות.

מטעמי סימטריה מתקיים E→=E(z)⋅z^,D→=D(z)⋅z^

בתוך הקבל D→ אחיד: D→=D0z^. נסתכל על צפיפות המטען המשטחית על הלוח העליון:ηf=z^⋅(D→out−D→in)=−D0ולכן המטען ובהתאם הקיבול:Q=|D0|⋅A⇒C=QV=|D0|⋅AVבשכבה ה-i מתקיים:D→=ϵE→⇒D0z^=ϵiE→i⇒E→i=D0ϵiz^המתח הכולל יתקבל על ידי סכימה על הפוטנציאלים שנצברים בכל שכבה:V=∑D0ϵi⋅di⇒C=D0⋅A∑D0ϵi⋅di=A∑diϵi=1∑diϵiAנשים לב לכך שהתוצאה שקיבלנו שקולה לחיבור קבלים בטור.

אם השתנות ϵ רציפה ϵ=ϵ(z) נוכל לחלק לשכבות בעובי dz ונקבל:1Ceq=1A∫dzϵ(z)במקור הגדרנו: p→=αE→נגדיר מחדש: p→=ϵ0αE→כאשר: [α]=m3