פרק 10 - שדות חשמליים בחומר

From EM Fields - TAU
Jump to navigation Jump to search


שדות חשמליים בחומר

איור 1

עד כה עסקנו בהתנהגות השדה החשמלי והמגנטי בואקום - כלומר בהעדר חומר כלשהו. במציאות, כמובן שכל התופעות מתרגשות בתוך חומר כלשהו. מטרתנו בפרק זה היא להבין כיצד מתארים את האינטראקציה של החומר עם השדה החשמלי, ומתוך תאור זה לקבל מודל כמותי המאפשר להביא בחשבון את תכונות החומרים בתוך משוואות מקסוול. נקודה חשובה אותה כבר הזכרנו, ועומדת בבסיס המודלים אותם נציג בפרק זה היא הנקודה הבאה:

  • תגובת החומר לשדה החשמלי באה לידי ביטוי בתגובת המטענים שבחומר לשדה, ובפרט ביצירת פילוג מטענים "חדש" בחומר בתגובה להפעלת שדה חיצוני. ברגע שנדע לחשב את פילוג המטענים ה"מושרה" על ידי השדה החיצוני, השדה הכולל יהיה השדה החינוני בתוספת לשדה אותו יוצר הפילוג המושרה, כאילו היו מונחים בואקום.

חומרים מוליכים

בפרקים קודמים כבר הזכרנו את התנהגות השדות החשמליים בתוך חומרים מוליכים, כאשר את תגובת החומר (הזרם שנוצר כתוצאה מהפעלת שדה חשמלי כלשהו) תארנו באמצעות חוק אוהם J=σE

בפרק זה ננסה להסביר מעט יותר טוב מאיפה חוק זה נובע, באמצעות מודל פשטני למדי, אך יעיל. נניח כי קיים במרחב "ענן" פילוג מטען כלשהו ρ(r) כמוראה באיור 1, ונושאי המטען נעים במהירות v(r). על פי הגדרת הזרם כמטען שחולף דרך חתך מסוים ליחידת זמן, ניתן לרשום ביטוי לצפיפות הזרם J=ρ(r)v(r) אם נניח שפילוג המטען בנוי מחלקיקים נושאי מטען בצפיפות נפחית n(r), ומטענו של כל חלקיק הוא q, נקבל J=n(r)qv(r)

איור 2

במקרה הכללי ביותר, ייתכן ופילוג המטען מורכב מיותר מסוג אחד של חלקיקים, כאשר לחלקיקים מסוג k תהיה צפיפות nk(r), מטען qk, ופילוג מהירויות v(r). במקרה זה ניתן לרשום את צפיפות הזרם המרחבית על ידי J=nkqkvk חשוב לציין ש-qk יכול להיות גם שלילי וגם חיובי (מה שיוביל לצפיפות זרם הפוכה בכיוונה).

מודל Drude

איור 3 - פאול דרודה

מודל דרודה הוא מודל קלאסי מקורב המתאר את האינטראקציה של מטענים חופשיים בחומר עם שדה חשמלי. במודל דרודה, מסתכלים על מטענים אשר חופשיים לנוע בתגובה להפעלת שדה חשמלי חיצוני E. במצב זה, ניתן לכתוב את משוואת התנועה עבור החוק השני בצורה הבאה: mv˙=qEνv כאשר ν הינו מקדם החיכוך האפקטיבי הגורם לכוחות מעכבים לפעול על המטענים הנעים בחומר. כשהמערכת מתייצבת (בין אם ההתייצבות נובעת משדות סטטיים לחלוטין, ובין אם קצב השינוי של השדות במערכת הרבה יותר איטי מזמן ההתייצבות האופייני), מתקיים v˙=0 ואז ניתן לרשום:

qE=νvv=qνE=vd

כאשר vd מוגדרת להיות המהירות בשיווי משקל (נקראת "מהירות הסחיפה", או drift velocity).

מקובל לסמן μ=qν - מוביליות נושאי המטען.

אם נציב את הביטוי ל-vd במשוואה המתארת את צפיפות הזרם, נקבל: J=nkqkvk=nkqkqkνkE=nkqk2νkσE=σE כלומר, קיבלנו מתוך מודל דרודה את חוק אוהם, כאשר σ המוליכות הסגולית, והיא פרמטר התלוי בצפיפות נושאי המטען בחומר, מקדם ה"חיכוך", ומטענם של נושאי המטען.

את משוואות השדה ותנאי השפה בחומר המקיים את חוק אוהב כבר ראינו בפרק 8.

פולריזציה

איור 4 - פולריזציה

לא תמיד יש אלקטרונים שחופשיים לנוע, לפעמים האלקטרונים "קשורים" אבל יכולה להיות סטייה במיקומם ביחס לגרעין.

איור 5

אין זה המקום להכנס למודלים מדויקים של פילוג המטען סביב אטום, אך באופן כללי מיקום האלקטרון מתואר ע"י פונקציית גל קוונטית Ψ, כאשר|Ψ|2 מתארת לנו את ההסתברות למצוא את האלקטרון במיקום מסוים סביב הגרעין.

כאשר מופעל שדה חיצוני, הוא "מעוות" את ענן האלקטרונים (פונקציית הגלת איור 4), והמיקום הממוצע של האלקטרונים נתון על ידי הביטוי:

rψ(r,t)ψ*(r,t)dr

ללא שדה, צפוי שמרכז הכובד של של ההסתברות יהיה במרכז האטום, אך בהפעלת השדה, המיקום הממוצע של האלקטרונים כבר לא יהיה במרכז וייווצר דיפול שקול בחומר.

בחומרים מסוימים, לדוגמא מים (איור 5), למולקולות המרכיבות אותם קיים מומנט דיפול באופן טבעי, ואז הפעלה של שדה חשמלי חיצוני גם נוטה "ליישר" את כל הדיפולים בכיוון השדה.

כמובן, שקיימים מקרים רבים בהם שני מנגנוני קיטוב אלו תורמים לתגובת החומר.

מודל מקרוסקופי

איור 6

המודל המיקרוסקופי (כלומר מודל המתאר תגובה של אטום או מולקולה בודדים לשדה בסביבתם) אותו תארנו אינו קשור באופן ישיר למשוואות מקסוול. המטרה שלנו, כעת, היא למצוא פרמטרים מקרוסקופיים ממוצעים, שאותם נוכל להציב במשוואות מקסוול ולפתור את השדות בנוכחות חומרים.

כבר ציינו, שעל מנת להבין טוב את האינטראקציה בין החומר לשדה עלינו לקבל את פילוג המטען שנוצר בחומר בתגובה להפעלת השדה החיצוני וממנו ניתן יהיה לחשב את השדה המלא כשדה שנוצר ע"י המקורות החיצוניים + פילוג המטען בחומר.

נניח כי קיים חומר כלשהו שהפעלת שדה חיצוני גרמה להתקטבות המטען בתוכו, וליצירת מוומנט דיפול כלשהו באטומים המרכיבים אותו (איור 6). נביט בתיבה קטנה מתוך החומר.

אם נניח שמומנט הדיפול של כל אטום או מולקולה הוא patom, ובתיבה יש N דיפולים, נקבל שמומנט הדיפול השקול של החומר בתיבה הוא P=Npatom. נוכל להגדיר את צפיפות הדיפולים הנפחית בתור היחס בין מומנט הדיפול לנפח:

P=pδv=pδAδl

בהינתן P, אפשר לרשום:

p=Pδv=(PδA)δl=δQδl

מאחר ומומנט דיפול מוגדר על ידי p=Qd, נסיק כי את הפולריזציה ניתן לייצג כאילו על פאה יש מטען δQ=PδA והם מופרדים זה מזה במרחק של δl. באופן דומה, אם היינו עושים את החישוב על הפאה התחתונה, היינו מקבלים δQ=PδA/

בעצם מה שקיבלנו הוא שכדי ליצור את תגובת החומר שבתיבה לשדה החשמלי, באופן אפקטיבי "הועתקה" כמות מטען של δq מהדופן התחתונה לעליונה, למרחק של δl בין פילוגי המטען.

אם נכליל את התוצאה, כדי לחשב את סך מטען הפולריזציה המשטחי על דפנות התיבה, עלינו לסכם ולקבל Qp,surface=Pδa

מאחר והחומר הוא ניטרלי מבחינת סך המטען שבו (נזכור כי המודל שלנו עבור הפולריזציה הוא דיפולים שנוצרים בתגובה לשדה, וסך המטען בכל דיפול הוא אפס), ברור כי סך המטען בכל נפח שנבחר חייב להתאפס, ולכן Qp,volume=Pda נביט בקשר הזה, עבור נפח קטן Δv:

ρp=Qp,volumeΔv=1ΔvPda=Δv0P

ρp=P כאשר השתמשנו בהגדרת הדיברגנץ.

נשים לב לכך שאם P אחיד, אז ρp=0.

צפיפות משטחית של מטעני הפולריזציה

כעת, כשיש לנו חוקים אינטגרלים הקושרים את מטעני הפולריזציה לוקטור הפולריזציה בחומר, נוכל לבצע לוקליזציה של הביטויים האינטגרלים סביב שפות, על מנת לקבל את צפיפות מטען הפולריזציה המשטחית. למעשה, אין צורך לחזור על התהליך, וניתן להשתמש בדמיון ה"ויזואלי" לחוק גאוס הקשר בין חוק גאוס האינטגרלי, לתנאי השפה לחוק גאוס הוא Qin=ϵ0Edaη=n^(ϵ0E2ϵ0E1) ולכן, באופן אנלוגי לחלוטין נקבל את הקשר בין אי רציפות בוקטור הפולריזציה לצפיפות משטחית של מטען הפולריזציה Qp=Pdaηp=n^(P2P1)

זרמי פולריזציה

נסתכל על השינוי בזמן באלמנט קטן של מטען פולריזציה משטחי δQ=PδA. הזרם ה"נכנס" לשפה, קשור לשינוי זה על ידי

I=d(δQ)dt=ddt(PδA)=dPdtJpδA=JpδA כאשר השינוי בזמן של P הוא למעשה צפיפות נפחית של זרם שחולף בתיבה - זרם פולריזציה Jp.

ביחד עם הקשר ρp=P נקבל את חוק שימור מטען הפולריזציה:Jp=dρpdtנקבל: ηp=n^(P2P1)

אם נגזור בזמן את הביטוי שקיבלנו עבור צפיפות המטען המשטחית, נקבל: dηpdt=n^(P2tP1t)=n^(J2,pJ1,p) כלומר, אין זרמי פולריזציה משטחיים! (אלא אם יש תנועה מכנית)

משוואות מקסוול בחומר

אם נסכם את פרטי המודל עד כה, קיבלנו שקיומה של פולריזציה בחומר ניתן לתאור על ידי פילוג מטען אפקטיבי המונח בואקום. אם נכניס פילוג מטען זה למשוואות מקסוול, נקבל {×E=(μ0H)t(ϵ0E)=ρf+(P)×H=(ϵ0E)t+Jf+Pt(μ0H)=0 המקורות לשדה החשמלי הם כלל המטענים בבעיה - מטענים חופשיים ומטעני פולריזציה.

תנאי השפה המגיעים ממשוואות מקסוול בתנאים אלו: {n^×(E2E1)=0n^(ϵ0E2ϵ0E1)=ηf+(n^[P2P1])=ηf+ηpn^×(H2H1)=Kfn^(μ0H2μ0H1)=0 נשים לב, כי ניסוח משוואות מקסוול אותן יש לפתור בסופו של דבר הצריך 3 צעדים עיקריים:

  1. מידול התגובה המקרוסקופית של החומר (ענן אלקטרונים שמוסט כתוצאה מהפעלת שדה חשמלי חיצוני), וחישוב פילוג המקורות שנוצר בעקבותיה.
  2. הגדרת וקטור פולריזציה מקרוסקופי, רציף וממוצע בעזרת המודל המיקרוסקופי. למעשה הגדרנו תא יחידה, והנחנו שמיצוע פשוט של הדיפולים בתא היחידה הזה יתן את וקטור הפולריזציה. צעד זה נסמך למעשה על תאוריית קלאוזיוס - מזוטי. על אף שהיא נפוצה, היא לא מדויקת ובמקרים רבים לא ניתן להשתמש בה כדי להסביר תופעות ניסיוניות.
  3. מתוך וקטור הפולריזציה חישוב התפלגות מטען הפולריזציה המקרוסקופית צעד זה אינו בעייתי ותמיד נכון, כל עוד אנחנו עובדים בתחום שבו ניתן להגדיר וקטור פולריזציה מקרוסקופי.

דוגמה - לוח בעל פוריזציה אחידה

איור 7

נתון לוח של חומר פעיל בו שוררת הפולריזציה P=P0z^ (איור 7). חשבו את השדה החשמלי בכל המרחב.

נתחיל מחישוב צפיפות מטעני הפולריזציה ρp=P=zPz=P0d

על השפות: ηp,z=0=z^(Pz=00)=0 ηp,z=d=z^(0Pz=d)=z^(0P0z^)=P0 נוודא שאכן מתקיים שסך מטעני הפולריזציה מתאפס Qp,total=ρpAd+ηp,z=dA=P0dAd+P0A=0 הבעיה השקולה - מטעני פולריזציה בואקום.

מאחר וסך מטעני הפולריזציה ליחידת שטח הוא אפס ויש סימטריה של לוח אינסופי, נקבל E=0 מחוץ ללוח, כלומר ב-z<0,z>d. משיקולי סימטריה: E=E(z)z^.

איור 8

נשתמש בחוק גאוס האינטגרלי. נגדיר מעטפת (הפאה העליונה נמצאת בקואורדינטה z)ϵ0Eda=Qinϵ0E(z)A=P0dAzE(z)=P0dϵ0z ניתן לראות שרטוט סכמטי של הפיתרון באיור (8).

משוואות מקסוול בחומר - וקטור ההעתקה

נשים לב שבאופן אלטרנטיבי ניתן לרשום את משוואות מקסוול שבהן מופיעה הפולריזציה גם באופן הבא {(ϵ0E)=ρf+(P)(ϵ0E+P)=ρf×H=(ϵ0E)t+Jf+Pt×H=t(ϵ0E+P)+Jfn^(ϵ0E2ϵ0E1)=ηf+(n^[P2P1])n^((ϵ0E2+P2)(ϵ0E1+P1))=ηf מבנה זה מרמז שיהיה שימושי להגדיר את וקטור ההעתקה D=ϵ0E+P ואז נוכל לרשום

{×E=(μ0H)t(D)=ρf×H=Dt+Jf(μ0H)=0 ותנאי השפה: {n^×(E2E1)=0n^(D2D1)=ηfn^×(H2H1)=Kfn^(μ0H2μ0H1)=0 המקורות לשדה ההעתקה D הם המטענים החופשיים בלבד, בעוד שכבר ראינו שהמקורות לשדה החשמלי E הם המטענים החופשיים ומטעני הפולריזציה.

מנגנונים ליצירת פולריזציה:

  • Pyroelectric materials (נוצרת פולריזציה בתגובה לשינוי בטמפרטורה)
  • Piezoelectric materials (נוצרת פולריזציה בתגובה להפעלת מאמץ חיצוני)
  • Ferroelectric materials (קיים תהליך טבעי שיוצר פולריזציה בלי הפעלת השפעה חיצונית)
  • Bi-anisotropic materials

הקשר בין השדה החשמלי E, הפולריזציה P ושדה ההעתקה D

קיימים סוגים רבים של חומרים, בהם מתקיימים קשרים שונים בין השדה החשמלי השורר בחומר ווקטור הפורלריזציה. באיור 9 מוצגות מספר דוגמאות. מימין - חומר אלקטרו-פעיל טהור בו שוררת פולריזציה קבועה ללא תלות בשדה החשמלי המופעל. במרכז, חומר פסיבי, בו פולריזציה נוצרת רק בתגובה לשדה חיצוני, ומתאפסת כאשר ערך השדה חוזר לאפס. משמאל - מודל היסטרזיס. חומר שבו לאחר כיבוי השדה החשמלי נותרת פולריזציה שיורית (בדומה למגנוט של פיסת ברזל). חומרים שמגיבים כך יותר נפוצים במקרה המגנטי, ונדון בתגובה מסוג זה (לולאת היסטרזיס) כאשר נדון בחומרים מגנטיים.

איור 9 - תלות בין P ל E

סוספטביליות ומקדם דיאלקטרי

אנחנו נתעניין בחומרים לינאריים בהם מתקיים: P=ϵ0χeE כאשר χe היא הסוספטיביליות החשמלית. חומרים רבים בטבע מגיבים בצורה זו כאשר השדות בחומר אינם חזקים מדי. נוכל כעת לכתוב את וקטור שדה ההעתקה D באופן הבא D=ϵ0E+P=ϵ0E+ϵ0χeE=ϵ0(1+χe)E=ϵ0ϵrE=ϵE כאשר 1+χe הוא המקדם הדיאלקטרי היחסי המסומן ב-ϵr, ו-ϵ0(1+χe) הוא המקדם הדיאלקטרי המסומן ב-ϵ.

תכונות של חומרים לינאריים

  • איזוטרופיות - החומר מגיב באופן זהה לכל הכיוונים של השדה שמופעלים עליו (או בתוכו). כלומר, ϵ ו-χe הם סקלרים. אם זה לא כך, ϵ__ ו-χe__ הן מטריצות. במצב זה נוכל לכתוב את שדה ההעתקה באופן הבא:

D=ϵ0E+P=ϵ0(𝕀__+χe__)E=ϵ0ϵr__E לדוגמה, אם χe תהיה מטריצה 3×3, גם ϵ תהיה מטריצה מסדר זה.

  • הומוגניות - כאשר תכונות החומר, ϵ, לא תלויות במיקום. כאשר התווך אינו הומוגני מתקיים ϵ=ϵ(r)

ברגע שיודעים מהו ϵ, אז אפשר להכניס אותו לתוך המשוואה ולפתור:D=ρf(ϵE)=ρf×H=Dt+Jf×H=(ϵE)t+Jfעם תנאי השפה:n^(D2D1)=ηfn^(ϵ2E2ϵ1E1)=ηf

מטען נקודתי בתוך חומר דיאלקטרי

כאשר עסקנו במטען נקודתי בואקום, השדה אותו יוצר המטען למעשה מקיים:

E=ρϵ0=δ(rr0)ϵ02ϕ=δ(rr0)ϵ0התוצאה היא כמובן הפוטנציאל:

ϕ=q4πϵ0|rr|

תווך אינסופי (איור 10)

איור 10

D=q4πr2r^D=ϵEE=DϵE=q4πϵr2r^

כדור סופי (איור 11)

איור 11

מטעמי סימטריה מתקיים E=E(r)r^,D=D(r)r^. נקבל את תנאי השפה:n^(DoutDin)=ηf=0מכאן נובע:D=ρfDn^ds=Qf,inשדה ההעתקה:D=q4πr2r^והשדה החשמלי:{E=q4πϵr2r^r<aE=q4πϵ0r2r^r>aתנאי שפה עבור E בוואקום:n^(ϵ0E2ϵ0E1)=ηtot=ηf+ηpolנמצא את הפולריזציה:D=ϵE=ϵ0E+PP=(ϵϵ0)EP={q4πϵr2r^(ϵϵ0)r<a0  r>aכעת נוכל למצוא את צפיפות המטען המשטחית (על שפת הכדור) הנובעת ממטעני הפולריזציה:ηp=r^(PoutPin)=q4πϵa2(ϵϵ0)Qp=qϵϵ0ϵסך מטעני הפולריזציה חייב להיות אפס. את המטען עצמו נוכל לקבל מחוק גאוס:ϵ0En^ds=Qf+Qpolϵ0q4πϵr24πr2=q+Qpolϵ0ϵq=q+QpolQpol=ϵ+ϵ0ϵqוזהו בדיוק Qp,surface כך שסך מטען הפולריזציה הוא אכן אפס.

דוגמה (איור 12)

איור 12

נתון כדור בעל מקדם דיאלקטרי ϵ, מוקף בריק. הכדור מוכנס לשדה אחיד. מצאו את השדות בכל המרחב.

הבעיה סטטית ולכן ניתן לרשום את השדה החשמלי בתור גרדיאנט של פונקציה סקלרית:×E=0E=ϕבהצבה במשוואות מקסוול נקבל:(ϵE)=0(ϵ(ϕ))=0מאחר ו-ϵ הומוגני נקבל:ϵ2ϕ=0וזוהי משוואת לפלס.

תנאי השפה בבעיה:{ϕout(r>>a)=E0z=E0rcosθr^(ϵ0EoutϵEin)|r=a=0r^[ϵ0ϕoutr(ϵϕinr)]r=a=0ϕout(r=a)=ϕin(r=a)ϕin(r0)< נבחר פוטנציאל:{ϕout=(Ar+Br2)cosθϕin=Crcosθכאשר זרקנו את התלות ב-1r2 בפוטנציאל הפנימי כדי לקיים את תנאי השפה הרביעי.

מתנאי השפה השלישי והראשון בהתאמה נקבל:{Aa+Ba2=Caϕout(r>>a)=Arcosθ=E0rcosθA=E0נציב בתנאי השפה השני את הנגזרות של הפוטנציאל:ϕoutr=(A2Br3)cosθ,ϕinr=Ccosθונקבל:ϵ0(A2Ba3)=ϵCבסך הכל, המקדמים אשר נקבל עבור הפוטנציאל הם:{A=E0B=a3ϵr1ϵr+2E0C=a33ϵr+2E0כאשר ϵr=ϵϵ0. לכן, הפוטנציאל והשדה החשמלי מחוץ לכדור:{ϕout=(E0r+E0a3ϵr1ϵr+21r2)cosθEout=E0z^+ϵr1ϵr+2E0a3r3(2cosθr^+sinθθ^)כעת נוכל לחשב את הקיטוביות:ϕdipole=p4πϵ01r2cosθבבעיה שלנו, נמצא את הקיטוביות בעזרת השוואת מקדמים:p4πϵ0=E0a3ϵr1ϵr+2p=4πϵ0a3ϵr1ϵr+2E0הקיטוביות מוגדרת על ידי p=ϵ0αE, לכן נוכל לרשום:α=4πa3ϵr1ϵr+2=3Vϵr1ϵr+2כעת נסתכל על השדה והפוטנציאל בתוך הכדור:{ϕin=3E02+ϵrrcosθEin=32+ϵrz^מתקיים Ein=Eout+Erespond ולכן שדה התגובה:Erespond=ϵr1ϵr+2E0z^

איור 13 - שרטוט הפיתרון

דוגמה 2 (איור 14)

איור 14

חשבו את הקיבול של קבל שכבות.

מטעמי סימטריה מתקיים E=E(z)z^,D=D(z)z^

בתוך הקבל D אחיד: D=D0z^. נסתכל על צפיפות המטען המשטחית על הלוח העליון:ηf=z^(DoutDin)=D0ולכן המטען ובהתאם הקיבול:Q=|D0|AC=QV=|D0|AVבשכבה ה-i מתקיים:D=ϵED0z^=ϵiEiEi=D0ϵiz^המתח הכולל יתקבל על ידי סכימה על הפוטנציאלים שנצברים בכל שכבה:V=D0ϵidiC=D0AD0ϵidi=Adiϵi=1diϵiAנשים לב לכך שהתוצאה שקיבלנו שקולה לחיבור קבלים בטור.

אם השתנות ϵ רציפה ϵ=ϵ(z) נוכל לחלק לשכבות בעובי dz ונקבל:1Ceq=1Adzϵ(z)במקור הגדרנו: p=αEנגדיר מחדש: p=ϵ0αEכאשר: [α]=m3